半导体技术泄密

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日本TEL社长赴台积电赔罪!
国芯网· 2025-09-10 12:50
国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业! 不拘中国、 放眼世界 ! 关注 世界半导体论坛 ↓ ↓ ↓ 知情人士透露,河合利树此行主要目的是向台积电表达歉意,针对TEL前陈姓工程师涉嫌泄露台积电 2nm技术机密一事,亲自向魏哲家致歉,并提出公司如何善后的初步构想。由于双方为闭门会谈,具体 内容尚不对外公开,目前仍待TEL方面进一步说明。 9月10日消息, 日本TEL公司社长河合利树抵达中国台湾,密会台积电 董事长 魏哲家,疑为2nm泄密 案"向台积电赔罪"! 据报道,2025年SEMICON Taiwan国际半导体展今日于台北南港展览馆一、二馆正式开幕,吸引全球产 业目光。不过,外界关注的焦点之一,落在东京威力科创(TEL)社长兼执行长河合利树的缺席。 据了解,河合昨日下午缺席展会活动,转而前往新竹与台积电董事长暨总裁魏哲家进行闭门会晤,为先 前爆发的2nm技术泄密事件亲自道歉,并提出后续善后对策。 据报导, TEL 是全球半导体设备的主要供货商,台湾地区为其关键市场,台积电更是其重要客户。 据之前报道,台积电 2nm 芯片技术外泄事件涉案 3 人被检方起诉,分别被要求判处14年、9年和7年徒 刑。 ...