国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业！ 不拘中国、 放眼世界 ！ 关注 世界半导体论坛 ↓ ↓ ↓ 知情人士透露，河合利树此行主要目的是向台积电表达歉意，针对TEL前陈姓工程师涉嫌泄露台积电 2nm技术机密一事，亲自向魏哲家致歉，并提出公司如何善后的初步构想。由于双方为闭门会谈，具体 内容尚不对外公开，目前仍待TEL方面进一步说明。 9月10日消息， 日本TEL公司社长河合利树抵达中国台湾，密会台积电 董事长 魏哲家，疑为2nm泄密 案"向台积电赔罪"！ 据报道，2025年SEMICON Taiwan国际半导体展今日于台北南港展览馆一、二馆正式开幕，吸引全球产 业目光。不过，外界关注的焦点之一，落在东京威力科创（TEL）社长兼执行长河合利树的缺席。 据了解，河合昨日下午缺席展会活动，转而前往新竹与台积电董事长暨总裁魏哲家进行闭门会晤，为先 前爆发的2nm技术泄密事件亲自道歉，并提出后续善后对策。 据报导， TEL 是全球半导体设备的主要供货商，台湾地区为其关键市场，台积电更是其重要客户。 据之前报道，台积电 2nm 芯片技术外泄事件涉案 3 人被检方起诉，分别被要求判处14年、9年和7年徒 刑。 ...

不拘中国、 放眼世界 ！ 关注 世界半导体论坛 ↓ ↓ ↓ 国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业！ 台湾地区"高等检察署"侦办台积电2纳米核心关键技术窃密案，查出台积电前工程师陈力铭跳槽到日企东京电子公司后，为获取"蚀刻机台"量产测试数 据，通过时任台积电工程师吴秉骏、戈一平窃取机台参数配方。 据悉，由于陈力铭、吴秉骏、戈一平涉"核心关键技术营业秘密之域外使用罪"，检方分别求处7至14年重刑，3人在押，且均认罪，下周将移审至台湾地 区"智慧财产与商业法院"。 检调认定，陈力铭翻拍、复制台积电核心技术测试数据、流程图文件共14张。检方认定，陈力铭应执行有期徒刑14年，吴秉骏应执行有期徒刑9年，戈一 平应处有期徒刑7年。 根据台媒报道，2025年7月底，台湾高等检察署接到台积电的举报，称公司内部监测系统发现异常文件访问记录。检方迅速行动，7月25日至28日展开了大 范围搜查，逮捕了6名涉案人员，其中3名被认为是主犯，直接被拘留。 这3人中，有2名是台积电现役工程师，1名是前员工。而这些人的"下家"指向了日本企业——东京威力科创（TEL）和Rapidus。这两家公司，一个是全球 顶尖的半导体设备制造商， ...