公司业绩增长主要得益于主营业务的持续突破与新产品的快速发展。在核心的等离子体刻蚀设备领域， 公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，相关工艺已实现稳 定可靠的大规模量产，刻蚀设备反应台全球累计出货量截至2025年底已超过6,800台，刻蚀设备销售收 入预计同比增长约35.12%。 与此同时，公司在新产品拓展上成果丰硕，为先进器件开发的LPCVD、ALD等十多款薄膜设备顺利进 入市场并获得重复性订单，相关销售收入预计实现约224.23%的同比大幅增长，成为新的业绩增长点。 此外，公司的外延（EPI）设备已进入客户端量产验证阶段，MOCVD设备在巩固传统市场领先地位的 同时，在碳化硅、Micro-LED等新应用领域的布局也取得了良好进展。 为把握市场机遇并夯实长期发展基础，公司持续保持高强度的研发投入。2025年全年研发投入预计约 37.36亿元，较上年大幅增长约52.32%，研发投入占营业收入的比例达到30.16%。其中，研发费用预计 增长约74.36%。这体现了公司致力于通过技术创新弥补国产设备短板、积极追赶国际先进水平的决 心。 1月23日，中微公司发布2025年度业绩预告 ...