通过调整溶液中的氨含量，研究人员能够控制光束是蚀刻掉材料还是沉积材料，从而有效地实现原子水平的 3D 雕刻。 公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 来源：内容 编译自phy 。 在极小的尺度上创建复杂结构一直是工程师们面临的挑战。但佐治亚理工学院的一项新研究表明，已广泛应用于成像和制 造的电子束，也可以作为超精密工具，用于雕刻和构建铜等材料的结构。 乔治·W·伍德拉夫机械工程学院安德烈·费奥多罗夫教授的研究小组发现了一种技术，该技术利用液体环境中的聚焦电子束 去除或沉积铜，完全取决于周围的化学性质。 通过精心调节氨浓度和电子束照射，研究团队能够以纳米级精度微调铜表面的形状和结构。他们还开发了模型并进行了模 拟，以更好地理解这些化学变化如何影响铜的行为。 双向道路 电子束方法通常用于去除材料或添加材料，但不能同时进行。在本研究中，研究人员开发了一种工艺，可以使用相同的设 置依次完成其中一项或两项操作。 在实验中，他们将电子束聚焦在浸没在水氨溶液中的铜上。在低氨浓度下，电子束蚀刻出的沟槽仅深 50 纳米，大约比一 张纸薄 2000 倍。 随着时间的推移，蚀刻过程中去除的铜原子开始重新沉积在沟槽内，形成微 ...