内容概要：半导体湿法设备超纯槽体是半导体湿法设备用于盛放晶圆片、化学清洗液、去离子水等物品 的容器，是半导体湿法设备的关键部件。近年来，随着科技的不断进步，国产半导体清洗设备不断精 进，半导体清洗设备的超纯槽体成本增加。2024年我国半导体清洗设备的超纯槽体成本约为21万元，较 2023年增长3.5万元。半导体湿法设备超纯槽体作为半导体湿法设备的"心脏"，市场规模逐渐增长。 2024年我国半导体湿法设备超纯槽体市场规模约为3.03亿元，较2023年增长0.22亿元。 相关企业：江苏沃凯氟、上海沃特华本半导体、苏州霓佳斯、苏州芯矽科技、浙江孚诺林、东岳集团、 内蒙三爱富、阿科玛、巨化股份、山东华安、常熟苏威、中化蓝天、日本株式会社、乳源东阳光氟、昊 华科技 上市企业：至纯科技[603690]、北方华创[002371]、盛美上海[688082]、芯源微[688037] 关键词：半导体湿法设备超纯槽体市场规模、半导体湿法设备超纯槽体市场竞争格局、半导体湿法设备 超纯槽体行业发展前景 一、半导体湿法设备超纯槽体行业定义及特性 半导体湿法设备超纯槽体是半导体湿法设备用于盛放晶圆片、化学清洗液、去离子水等物品的容器。半 ...

内容概要：半导体湿法设备是芯片制造中用于清洗、蚀刻、去胶等一系列工艺的核心装备，它是通过使 用化学溶液与半导体材料进行反应来实现特定的工艺目的。全球主流芯片的制造分为4个阶段：原料制 作、单晶生长和晶圆的制造、集成电路晶圆的生产、集成电路的封装。在目前主流的芯片制程中，湿法 清洗是主流的清洗技术路线，占芯片制造清洗步骤数量的90%以上。近年来，随着全球半导体行业的快 速发展，半导体湿法设备市场也呈现出强劲的增长势头。据统计，2024年，全球半导体清洗设备市场规 模约为794.07亿元，较2023年增加82.35亿元；中国半导体清洗设备市场规模为158.82亿元，较2023年增 加30.71亿元。预计2025年全球半导体清洗设备市场规模有望达到880亿元，中国半导体清洗设备市场规 模有望达到195亿元。 上市企业：至纯科技[603690]、北方华创[002371]、盛美上海[688082]、芯源微[688037] 相关企业：迪恩士SCREEN、东京电子TEL、泛林LAM与细美事SEMES、Lam Research、中芯国际、长 江存储、华虹集团、富乐德、江化微、上海新阳、芯矽科技、重庆华润、上海华虹、上海积塔、 ...