广立微方面在公告中指出，在硅光芯片设计这一新兴领域，由于需要应对光电器件协同优化等问题带来 的特殊挑战，传统 EDA 工具已显现出明显的局限性。当前，硅光设计自动化工具（PDA）的发展仍处 于快速演进阶段，工具链的功能模块相对简化，从设计流程主要涵盖器件仿真、电路设计与仿真、版图 设计等环节，其成熟度与微电子集成电路 EDA 工具相比存在明显差距。 尽管海外头部企业已通过自研或并购布局硅光设计自动化工具（PDA）领域，但整体市场仍处于早期快 速迭代阶段，尚未形成类似集成电路 EDA 工具的高进入壁垒与相对垄断的格局。这一市场窗口期为 EDA 企业带来了战略性发展机遇：通过聚焦设计效率、精度及流程自动化等关键痛点，采取 "单点突 破、逐步扩展"的技术路径，有望在硅光设计生态中构建竞争优势。而这一窗口期或将催生新一代设计 工具领军企业，推动整个产业实现技术跃迁。 广立微表示，作为国内首家实现成品率提升全流程闭环的EDA与晶圆级电性测试设备提供商，公司围 绕着集成电路良率提升技术现已形成了一系列测试芯片、DFM、DFT 设计 EDA 工具及集成电路大数据 分析与管理等软件。在硅光产业快速发展的背景下，公司拟进行前瞻 ...