在产业化推进方面， DNP已与半导体制造商开展沟通，并启动新型NIL纳米压印技术的评估工作。 公 司计划在完成客户验证、建立量产工艺和供应体系后，于2027年开启量产供货，以应对逻辑半导体微 缩带来的市场需求。 DNP表示，将持续推动纳米压印技术升级和产能扩充，以匹配未来市场放量节 奏，将相关业务培育为公司半导体板块的重要增长关键点。 此外， DNP还计划在2025年12月17日至19日于 东京国际展览中心 举办的SEMICON Japan 2025 上，展出这款10纳米线宽NIL纳米压印技术。 公司认为，通过在专业展会集中展示产品与技术路线， 可加深与全球半导体制造企业及设备厂商的交流，推动纳米压印技术在先进逻辑制程中的应用发展。 后续该技术在量产良率、生产节拍以及与既有制程技术整合方面的表现，将成为市场持续关注的重 点。 DNP 指出，随着终端设备性能持续提升，市场对更先进制程逻辑半导体的需求不断扩大，推动采用极 紫外（EUV）曝光生产技术的演进。 但EUV在生产线建设和曝光过程中需要庞大金额的投资，并且有 高耗能与环境负荷的问题。 因此，自2003年起，DNP开始持续研发纳米压印技术，通过将电路图形 直 ...