如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 来源：内容 编译自hankyung 。 三星电子计划在明年上半年前投资约1.1万亿韩元，引进两台最新的极紫外（EUV）曝光设备（利 用光在晶圆上绘制电路的设备）——荷兰阿斯麦公司（ASML）的"高数值孔径（NA）EUV"。该 设备被认为对下一代晶圆代工厂（半导体代工）和高性能DRAM生产至关重要，因为它能够绘制 比现有产品精细1.7倍的电路。 据业内人士15日透露，三星电子计划在年内引进一台最新的高数值孔径EUV（型号：Twin Scan EXE:5200B），并在明年上半年再引进一台。三星电子此前仅在京畿道华城园区安装了用于研发 的高数值孔径EUV设备，这是其首次采购用于"量产"的高数值孔径EUV设备。 这套高数值孔径 EUV 系统由全球唯一一家 EUV 光刻机制造商 ASML 开发，其蚀刻电路的精细 度比当前 EUV 设备高出 1.7 倍。 关键改进在于系统的数值孔径（衡量镜头聚光效率的指标），已从 0.33 提升至 0.55。 据业内人士称，每套设备成本约为 5500 亿韩元，使其成为半导体制造领域最昂贵的设备。 一位业内高管表示："三星正在大力推进下一代工艺技 ...