接触栅控
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2D 晶体管,性能 “虚高”?
半导体行业观察· 2026-03-01 03:13
公众号记得加星标⭐️,第一时间看推送不会错过。 近二十年来,二维(2D)半导体一直被作为硅晶体管的补充材料乃至潜在替代方案进行研究,它们 有望实现更小、更快、更节能的处理器。为简化其制备与测试流程,该领域的大量研究都采用一种会 引发 "接触栅控" 现象的器件结构,来评估二维半导体的潜力。 如今,杜克大学电子工程师的研究结果表明,这种方法会在无形中夸大晶体管的纸面性能,且无法转 化为商用技术。这项研究于 2 月 17 日发表在《ACS Nano》期刊上,由电气与计算机工程系讲席教 授亚伦・富兰克林(Aaron Franklin)团队完成。 "大多数高性能二维晶体管的报道,所采用的器件设计都与商用技术不兼容。" 富兰克林表示,"我们 的研究表明,这种设计会改变晶体管的工作方式,从而显著夸大其性能。如果不考虑这一点,就很难 公正评估这些材料在未来晶体管技术中的真实表现。" 晶体管是所有计算机的基本组成单元。它们通过快速开启和关闭电流,形成所有编程语言所使用的 "0" 和 "1"。为提升处理性能,晶体管必须做得更小、更快、更高效 —— 或三者兼具。 长期以来,硅一直是制造晶体管的首选半导体,但现代技术正在逼近这一材料 ...