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多列电子束光刻系统(MEBL)
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一种“新型”的光刻技术
半导体行业观察· 2025-10-13 01:36
公众号记得加星标⭐️,第一时间看推送不会错过。 过去五年,全球半导体制造几乎等同于一场光刻机的地缘政治。ASML的EUV光刻系统成为先进制程 的唯一通行证,任何想进入 5nm 以下节点的公司,都必须经由这台价值超过 3 亿美元、由 45 万个 零件组成的巨兽。 从苹果到台积电,从三星到英特尔,整个行业的创新速度被EUV产能和供应节奏间接锁定。 而另一边, 非EUV 领域——电子束直写(E-Beam Lithography)、 纳米压印(NIL )、掩模直写 (ML2)——曾多次被寄予"平替"希望,却始终未能进入量产体系。它们像漂浮在摩尔定律边缘 的"幽灵技术",时而被提起,又悄然沉寂。 然而,AI的爆发正悄然改变这一切。一台EUV光刻机,不可能为每一家AI公司开启一条产线。在先 进封装、异构集成、Chiplet、SiP等多工艺、多材料混合的环境中,光学光刻难以覆盖全部需求层 级。在这种需求转折点上,制造业开始寻找新的可能。那些曾被遗忘的"非EUV技术"正在以新的形式 回归。 6.5 万束电子光束光刻,瞄准AI芯片 SecureFoundry成立于2016年,总部位于沃斯堡,是一家兼顾国家安全与商业需求的半导体 ...