Workflow
氧化铈基抛光液
icon
Search documents
破局与竞逐:中国高端CMP抛光液产业发展现状及氧化铈技术路径深度解析
材料汇· 2025-11-22 15:11
点击 最 下方 "在看"和" "并分享,"关注"材料汇 引言:芯片精密制造的"磨刀石" CMP 抛光液的战略盲点 在全球半导体产业竞争日趋激烈的今天,供应链安全已成为核心议题。当人们的目光聚焦于光刻机、 EDA 软件等"明星"环节时,化学机械抛光( CMP )工艺及其核心材料——抛光液,这一尖端芯片制造 中不可或缺的"磨刀石",却往往成为战略布局中的盲点。 图: CMP 工艺应用在硅片制造、前道、后道等环节中 资料来源:华海清科招股说明书 抛光液的性能直接决定芯片的良率、性能与可靠性。然而,一组数据触目惊心:全球 CMP 抛光液市场 规模已超过 20 亿美元,并以年复合增长率约 8% 的速度持续增长,但在中国市场,尤其是在 14 纳米及 以下的高端制程中,国产抛光液的市占率不足 10% 。这一数据揭示了其在供应链中潜在的"卡脖子"风 险,其自主可控的战略意义不言而喻。 一、全球市场格局 添加 小编微信 ,遇见 志同道合 的你 正文 巨头的游戏与高耸的壁垒 1.1 市场高度集中,巨头形成垄断 图 全球 CMP 抛光液市场代表企业区域分布 全球 CMP 抛光液市场呈现出高度集中的格局,代表企业包括 卡博特 (Ca ...