公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 在先进芯片制造方面，EUV光刻机是不得不提的重要组成。而提及EUV光刻的时候，大家首先想到的是ASML。诚 然，作为市场上领先的光刻机厂商，ASML在光刻机方面的实力不容忽视。特别是在当前备受关注的EUV光刻机方 面，ASML已然成为全球唯一的供应商。 但其实作为全球半导体的发源地，美国在EUV光刻方面的实力也不容忽视。虽然没有EUV光刻机，但其中关键的组成光 源，则是由ASML收购的美国公司Cymer开发。 为支持该项目，纽约州已投资10亿美元扩建奥尔巴尼纳米技术中心，通过购买ASML的EXE:5200高数值孔径EUV扫描仪 建立高数值孔径EUV中心，并建造了纳米晶圆反射工厂（NanoFab Reflection）。该工厂是一座全新的、高度先进的建 筑，拥有超过5万平方英尺的洁净室空间，将促进未来合作伙伴的发展，并支持国家半导体技术中心、国家先进封装制造 计划和国防部微电子公共项目等新项目。 美国方面表示，EUV加速器将专注于开发最先进的高数值孔径EUV技术及其相关研发。他们指出，EUV光刻技术已成为实 现7纳米以上晶体管量产的关键技术，尽管在1.6纳米和1. ...