半导体光掩膜版

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冠石科技:目前40nm掩模板处于送样验证期
Ju Chao Zi Xun· 2025-09-15 08:25
此外,光掩膜版制造项目建成投产后,公司将成为国内技术能力先进的独立光掩膜版生产企业,可填补国内先进制程光罩空白,打破国外高端光掩膜版的垄 断局面,提高我国半导体光掩膜产业的安全和可控性。 冠石科技称,宁波公司光掩膜版项目半导体光掩膜版技术节点锁定在350-28nm(其中以45-28nm为主),此布局可加速公司在高精度、低线宽半导体光掩膜 版领域的进口替代进程,填补国内中高端集成电路半导体芯片用光掩膜版的空白。 (校对/黄仁贵) 9月12日,冠石科技在业绩说明会上表示,目前40nm掩模板处于送样验证期,整体验证周期约在6-9个月。 被问及光掩膜项目的进展时,冠石科技表示,根据关键设备的交期,本项目建设周期设定为60个月,建成达产后,将具备年产12,450片半导体光掩膜版的能 力。公司的专业团队主要成员在半导体光掩膜版领域拥有丰富的技术研发经验、生产管理经验及行业资源。公司将继续按照已有的工作计划,积极推进各项 生产工作。 ...
冠石科技:半导体光掩膜版项目稳步推进 上半年实现收入超700万元
Zheng Quan Shi Bao Wang· 2025-07-31 09:05
值得一提的是,公司实现55纳米光掩膜版成功交付以及40纳米光掩膜版生产线通线,也意味着公司在中 高端光掩膜版领域取得重要进展。据介绍,该项目技术节点锁定在350-28nm,其中以45-28nm为主,此 布局的核心目标在于加速高精度、低线宽半导体光掩膜版的进口替代进程,填补国内中高端集成电路芯 片用光掩膜版的市场空白。 7月30日,冠石科技(605588.SH)披露了投资者关系活动记录表。宝盈基金、东北证券、基明资本、 东方证券等多家机构调研其宁波半导体光掩膜版项目,重点关注项目进展与商业化突破。该项目的推 进,标志着公司在半导体行业技术领域迈出了实质性的一步。 据调研信息,宁波光掩膜版项目总投资16亿元,设计产能为年产1.245万片半导体光掩膜版。该项目核 心团队源自国际龙头企业,具备全流程工艺覆盖能力。项目自2023年10月开工以来稳步推进,2024年1 月完成厂房封顶,7月首台电子束光刻机顺利交付,10月进入试产阶段。2025年3月,项目实现关键突 破,完成55纳米产品交付,40纳米生产线成功通线,这一成果标志着公司相关技术已从研发阶段向规模 化量产阶段跨越。 目前,该项目已开始为公司贡献营收,2025年 ...
全球光掩膜版及其掩膜基板产业布局
势银芯链· 2025-06-10 02:52
Core Viewpoint - The article discusses the current state and future potential of the mask and blank mask industry in China, particularly in the semiconductor and display panel sectors, highlighting the gaps in technology and production capabilities compared to international players [2][3][4]. Industry Overview - The mask plays a crucial role in the production of semiconductors and display panels, with domestic companies primarily focusing on 8.5 generation lines and below, lacking capabilities for high-generation and high-precision masks [2]. - In the semiconductor sector, while some domestic manufacturers can produce masks for 90nm and above processes, only a few can develop products for 65nm and 55nm nodes, indicating significant room for localization in the market for masks below 90nm [2]. Key Players and Product Layout - Major players in the mask industry include: - Qingyi Optoelectronics, which has achieved mass production of 180nm node masks and is developing 130nm-65nm node products [3]. - Huazhong Dishi Microelectronics, aiming for 90nm mass production in 2024 and 40nm by 2025 [4]. - Other notable companies include Longtu Photomask, Jinan Quanyi, and Shanghai Toppan, each focusing on various segments of the mask market [4][5]. Upcoming Events - The 2025 TrendBank (Fifth) Lithography Materials Industry Conference will be held from July 8 to 10 in Hefei, focusing on new applications, trends, and the supply chain in the lithography materials sector [8].