公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 来源 ： 内容来自半导体行业观察综合 。 台积电正在将其位于新竹科学园区的已停产的旧8英寸晶圆厂3号晶圆厂重新利用，用于生产极紫外光 防护薄膜（extreme ultraviolet pellicles），并将该生产流程移至内部。 极紫外光防护薄膜是一种高度透明的薄膜，覆盖在光掩模上方，用于防止在极紫外光曝光期间颗粒接 触光掩模。其设计旨在承受强烈的极紫外辐射和热应力，同时最大限度地减少光吸收和波前畸变。生 产防护薄膜可以缩短更换周期，并更好地控制组件。在极紫外光环境下，组件必须保护光掩模免受颗 粒物的影响，同时还要应对极端的曝光条件。 与传统的深紫外 (DUV) 工艺不同，EUV 系统采用 400 W 光源，局部加热温度最高可达 1,000°C， 这增加了污染风险，并使防护薄膜的性能对晶圆良率的影响更大。 防护薄膜的经济性促使人们采取不同的方法。深紫外光防护薄膜价格相对低廉，约为 600 美元，这 使得其在早期节点中得到广泛应用。然而，EUV 变体的定价已接近 30,000 美元，这一大幅上涨阻碍 了一些芯片制造商的全面部署，并可能导致了已记录的产量差距。 通 ...