来源：环球网 【环球网科技综合报道】9月11日消息，台积电近日对外确认多项产能调整计划，包括两年内退出氮化 镓（GaN）代工业务、整合8英寸旧厂并布局自研极紫外光（EUV）光罩薄膜量产，此举旨在优化产能 结构、降低运营成本，同时减少对外部供应链依赖，进一步提升先进制程竞争力。 从行业背景来看，过去10年台积电在先进制程领域投入了创纪录的资本，但随着摩尔定律逼近物理极 限，单纯依靠资本投入的收益逐步减弱。EUV光刻技术虽为更小制程节点提供可能，但其设备成本高 昂——单台EUV扫描机约1.5亿美元，High-NA版本更是超过3.5亿美元，且核心设备长期由ASML垄 断。在此背景下，台积电放缓High-NA设备采购节奏，转而加快EUV薄膜等关键配套技术的研发与量 产，成为其平衡成本与技术突破的重要策略。（纯钧） 根据规划，台积电将关闭位于新竹科学园区的6英寸二厂，并对新竹的8英寸三厂（Fab 3、Fab 5、Fab 8）进行整合。为缓解用工紧缺、提升产能利用效率，约30%的相关员工将调往南部科学园区及高雄厂 区。这一系列动作是台积电自2025年初启动旧厂精简计划以来的关键举措，将有效整合分散产能，降低 多厂区运营成 ...