EUV极紫外光刻技术
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逆势突围:3 家中企跻身全球芯片设备 20 强
是说芯语· 2026-02-01 00:24
据《日经亚洲》援引日本研究机构Global Net数据显示,2025年全球半导体设备市场规模向1680亿美元 冲刺,行业竞争格局迎来显著调整。 整体来看,美日荷企业仍主导全球市场,凭借核心技术壁垒把控先进制程关键环节;中国企业实现跨越 式发展,在刻蚀、光刻等领域从跟跑到并跑,成为国产替代核心力量,推动全球竞争版图多元化。 TOP20榜单清晰呈现两大梯队格局,头部企业垄断高端市场,中坚企业深耕细分赛道,中国三强的突围 成为最大亮点。 | 头部梯队 榜单前10名基本被美日荷企业包揽,仅北方华创作为中国企业跻身其中,这类企业覆盖从成熟制程到 3nm、2nm先进制程,是全球半导体制造的核心支撑。 荷兰阿斯麦(ASML) 仍是光刻领域绝对龙头,凭借EUV极紫外光刻技术垄断7nm以下先进制程市场, 高NA EUV设备更是3nm、2nm制程的核心装备,DUV领域亦保持技术领先。 美国应用材料(AMAT) 作为平台型巨头,产品覆盖沉积、刻蚀、检测等多环节,其Selectra5000选择性沉积设备领跑先进制程 市场; 泛林(LAM) 主导刻蚀赛道,同时在清洗、沉积领域稳居前列,是先进制程核心供应商; 科 磊(KLA) 掌控检测 ...