公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 在英特尔看来，半导体创新始终是一项团队合作，最持久的突破源于从研发到量产的深度生态系统协 作。英特尔晶圆代工为其在这一进程中扮演的领导角色而感到自豪，并已确立了其在业界的地位，成 为唯一一家拥有本土领先逻辑芯片研发和制造能力的美国公司。 今天，英特尔分享两个不同项目的里程碑，这两个项目分别展示了公司推动行业研究和创新、降低先 进设备概念风险以及加快为客户创造价值的不同方式。 自信扩展：首台 TWINSCAN EXE:5200B 高数值孔径 EUV 安装 随着前沿工艺节点特征尺寸的不断缩小，高数值孔径（High NA）极紫外（EUV）光刻技术正迅速崛 起，成为人工智能时代极具吸引力的光刻技术。ASML 和 Intel Foundry 已证明，目前 最先进的光 刻扫描仪在技术上可行，能够提供更高的精度和生产效率，从而使高数值孔径 EUV 技术在未来的大 规模生产中占据优势。 今天，英特尔激动地宣布，英特尔和ASML已成功完成TWINSCAN EXE:5200B的"验收测试"。 这 款高数值孔径（High NA）极紫外光刻机在保持第一代EXE : 5000高分辨率的同 ...