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半导体臭氧设备
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国林科技:关于半导体臭氧设备是否更适合于EUV光刻配套,业内处于工艺研究与试验中
Zheng Quan Ri Bao· 2025-08-11 08:13
(文章来源:证券日报) 证券日报网讯 8月11日有投资者在互动平台向国林科技提问"从技术研究成果来看,半导体臭氧设备是 否更适合于EUV光刻配套?"公司回复"从技术角度来说,未来会是一种发展趋势,目前行业中依然处于 工艺研究与试验中"。 ...