Core Viewpoint - Longtu Photomask has outlined its certification process, which typically takes 6-12 months or longer, depending on the complexity of the manufacturing process [1] Group 1: Certification Process - The certification process includes several stages: signing NDA agreements, evaluating information security systems, assessing manufacturing capabilities and precision indicators, verifying process and measurement method compatibility, confirming data processing, evaluating samples, and conducting wafer testing [1] - The higher the manufacturing process level, the stricter and longer the certification period [1] Group 2: Product Development Status - Longtu Photomask has successfully transitioned its 90nm products from research and development to mass production [1] - The 65nm products are currently in the customer validation phase [1]

格隆汇1月29日丨龙图光罩(688721.SH)近日接受特定对象调研时表示，认证流程主要包括签订 NDA 协 议、信息安全体系评估、制版能力及精度指标考察、工艺与测量方式匹配验证、数据处理确认、样品评 估及流片测试等环节。整体认证周期通常 6-12 个月甚至更长，制程等级越高，认证越严格、周期越 长。目前公司 90nm 产品已成功完成从研发到量产的跨越，65nm 产品处于客户验证阶段。 ...

证券日报网讯12月29日，龙图光罩在互动平台回答投资者提问时表示，关于多重曝光技术，其在理论上 确实可以通过图形分解和多次图案化流程，利用相对成熟的掩模版技术来支持更先进的芯片制程，但晶 圆厂的潜在成本和工艺难度极高。掩模版的制程节点(如"40nm掩模版")并非直接指其自身图形的最小物 理线宽，而是指它能够稳定支持下游晶圆厂制造的芯片工艺节点。公司目前已完成40nm工艺节点的生 产设备布局，并正积极推进65nm产品的送样以及90nm节点产品的量产导入。在产能建设方面，珠海募 投项目已于2025年第二季度开始小规模量产，目前正处于产能爬坡与市场拓展的关键阶段，公司正致力 于加速产能利用率的提升与客户合作的深化。关于公司各项业务的具体进展，请以官方披露的定期报告 或临时公告为准。 ...

格隆汇12月29日丨龙图光罩(688721.SH)在投资者互动平台表示，关于多重曝光技术，其在理论上确实 可以通过图形分解和多次图案化流程，利用相对成熟的掩模版技术来支持更先进的芯片制程，但晶圆厂 的潜在成本和工艺难度极高。掩模版的制程节点（如"40nm掩模版"）并非直接指其自身图形的最小物 理线宽，而是指它能够稳定支持下游晶圆厂制造的芯片工艺节点。公司目前已完成40nm工艺节点的生 产设备布局，并正积极推进65nm产品的送样以及90nm节点产品的量产导入。在产能建设方面，珠海募 投项目已于2025年第二季度开始小规模量产，目前正处于产能爬坡与市场拓展的关键阶段，公司正致力 于加速产能利用率的提升与客户合作的深化。关于公司各项业务的具体进展，请以官方披露的定期报告 或临时公告为准。 ...