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越跌越买?科创半导体ETF(588170)溢价频现,机构称国产光刻机产业有望加速崛起
Mei Ri Jing Ji Xin Wen· 2025-07-17 04:31
截至2025年7月17日 10点18分,上证科创板半导体材料设备主题指数下跌0.53%。成分股方面涨跌 互现,和林微纳领涨3.10%,明志科技上涨1.87%,沪硅产业上涨1.55%;安集科技领跌2.02%,芯源微 下跌1.55%,先锋精科下跌1.42%。科创半导体ETF(588170)下跌0.69%,最新报价1.01元。拉长时间 看,截至2025年7月16日,科创半导体ETF近1月累计上涨5.86%,涨幅排名可比基金1/2。 公开信息显示,科创半导体ETF(588170)跟踪上证科创板半导体材料设备主题指数,囊括科创板 中半导体设备和半导体材料细分领域的硬科技公司。半导体设备和材料行业是重要的国产替代领域,具 备国产化率较低、国产替代天花板较高属性,受益于人工智能革命下的半导体需求扩张、科技重组并购 浪潮、光刻机技术进展。 每日经济新闻 (责任编辑:张晓波 ) 【免责声明】本文仅代表作者本人观点,与和讯网无关。和讯网站对文中陈述、观点判断保持中立,不对所包含内容 的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考,并请自行承担全部责任。邮箱: news_center@staff.hexun.co ...
ASML称中国早已研发国产光刻机:中科院成功研发DUV光源技术,能生产3nm
是说芯语· 2025-06-09 07:53
据国外媒体报道称, 近日ASML CEO接受媒体采访时表示,中国早已研发国产光刻设备。 在这位CEO看来,尽管中国在赶超ASML的技术方面还有很长的路要走,但美国出台的打压措施只会适 得其反,让中国"更努力取得成功"。他还称,与其打压中国等竞争对手,不如将注意力放在创新上。 来源:快科技 在这之前,中国科学院成功研发除了突破性的固态DUV(深紫外)激光,可发射193nm的相干光,与目前 主流的DUV曝光波长一致,能将半导体工艺推进至3nm。 加入"中国IC独角兽联盟",请点击进入 中国科学院的这种技术最终获得的激光平均功率为70mW,频率为6kHz,线宽低于880MHz,半峰全 宽(FWHM)小于0.11pm(皮米,千分之一纳米),光谱纯度与现有商用准分子激光系统相当。 投稿 、 商务合作 请微信 dolphinjetta 基于此,甚至可用于3nm的工艺节点。 是说芯语,欢迎关注分享 这种设计可以大幅降低光刻系统的复杂度、体积,减少对于稀有气体的依赖,并大大降低能耗。 相关技术已经在国际光电工程学会(SPIE)的官网上公布。这种全固态DUV光源技术虽然在光谱纯度上已 经和商用标准相差无几,但是输出功率、频率都 ...