设计 - 技术协同优化(DTCO)
Search documents
苹果芯片一路狂奔,张忠谋赌对了
半导体行业观察· 2026-01-09 01:53
公众号记得加星标⭐️,第一时间看推送不会错过。 2013年,台积电斥资100亿美元押注苹果公司。张忠谋承诺在苹果公司投入巨资建设20纳米制程,尽 管当时经济效益尚不明朗,但他相信苹果会填满这些晶圆厂。"我把公司都押上了,但我没想到会 输,"张忠谋后来回忆道。事实证明他是对的。苹果A8芯片于2014年发布,台积电从此一帆风顺。 苹果公司在台积电的年度支出从2014年的20亿美元增长到2025年的240亿美元,12年间增长了12 倍。苹果公司在台积电营收中的占比也从9%飙升至峰值的25%,并在2025年稳定在20%。更引人注 目的是苹果公司在制程节点发布方面的统治地位:自20纳米制程以来,其占比始终保持在50%以上, 在某些情况下甚至接近100%。实际上,自20纳米制程以来,苹果公司为每一次主要制程节点的良率 提升都提供了资金支持。 如今,代工模式占据主导地位。集成器件制造商(IDM)仅靠单一客户难以支撑工艺开发和晶圆厂建 设支出。但即便如此,代工厂也需要一个需求量大、资金雄厚的"首选"客户来支持其持续发展。过去 十年,苹果一直是台积电的这样的客户。双方的强强联合将两家公司推向了新的高度,令竞争对手望 尘莫及,并 ...
CMOS 2.0,来了
半导体芯闻· 2025-10-20 10:40
如果您希望可以时常见面,欢迎标星收藏哦~ 来源 : 内容 编译自 semiwiki 。 在半导体技术快速演进的背景下,比利时微电子研究中心(imec)近期在晶圆对晶圆混合键合与 背 面 互 连 领 域 取 得 的 突 破 , 正 为 CMOS 2.0 技 术 铺 平 道 路 。 作 为 芯 片 设 计 领 域 的 范 式 革 新 , CMOS 2.0 技术于 2024 年推出,通过将系统级芯片(SoC)拆分为多个专用功能层,解决了传统 CMOS 工艺按比例缩小的局限性。借助系统 - 技术协同优化(STCO),每个功能层都针对特定需 求(如高性能逻辑运算、高密度存储或高能效)进行了优化。这种方案跳出了通用平台的框架,可 在 SoC 内部实现异质堆叠 —— 与当前处理器上堆叠静态随机存取存储器(SRAM)的 3D 堆叠技 术类似,但集成度更高。 作为正面键合的补充,背面互连技术可通过纳米级硅通孔(nTSV)或直接接触的方式实现 "正面 - 背面" 连接。对于 CMOS 2.0 的多层堆叠结构,这一技术能让晶圆两侧无缝集成金属层:背面供 电 网 络 ( BSPDN ) 从 背 面 输 送 电 力 , 既 减 少 了 ...