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新型X射线光刻(XRL)工具
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SemiAnalysis--X射线光刻能否颠覆ASML+TSMC芯片制造格局?
傅里叶的猫· 2025-10-30 12:33
More Than Semi . More Than SEMI 半导体行业研究 芯片制造行业,长期以来似乎被一种惯性所主导,头部企业的技术决策往往受限于我们一直都是这么做 的,对任何可能的技术回归或改变都抱有极大的恐惧。这种惯性渗透在生产的每一个细节里,比如光刻 车间的照明颜色,即便晶圆厂早已明确,传统的黄色灯光对光刻胶不再存在任何影响风险,却依然被保 留至今,没人愿意迈出改变的第一步。这种对既有路径的依赖,在近年来愈发明显:即便现有技术的缩 放速度不断放缓、成本持续飙升,芯片制造商们仍倾向于在原有技术框架内迭代,而非探索全新路径。 以下文章来源于More Than Semi ,作者Nico ASML的一款 roadmap 工具就是典型例子 ,该公司甚至公开承认,这款工具可能并不具备经济可行 性,但行业内的企业却很难轻易放弃既有的技术体系。毕竟,当前的光刻工具和晶圆厂能带来巨额利 润,一台售价 2.25 亿美元的 EUV 工具,一年就能生产出价值超过 6.5 亿美元的完整晶圆(尽管生产这 些晶圆还需承担除 EUV 工具外的诸多成本)。这种高投入高回报的现状,让大多数企业不愿冒险打破 平衡,却也为敢于创新的后来 ...