CCP刻蚀及TSV深硅通孔设备
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今日半导体设备板块爆发,拓荆科技领涨,多股跟涨印证景气
Jin Rong Jie· 2025-12-12 10:03
先进封装设备板块:AI芯片技术迭代推动先进封装需求,进而拉动相关设备增长。中信建投指出, 2025年下半年2.5D/3D先进封装技术有望取得突破,带动封装设备需求放量。中微公司已在先进封装领 域全面布局,发布CCP刻蚀及TSV深硅通孔设备,将进一步放大先进封装设备的采购需求。 风险提示:本文提及的行业信息与企业动态仅作梳理,不构成任何投资建议;企业经营及市场波动存在 不确定性,请注意相关风险。 存储芯片供需缺口扩大,设备需求同步激增:瑞银预计,DRAM供应短缺将持续至2027年第一季度, DDR内存需求增长20.7%远超供应增速;NAND闪存短缺态势将延续至2026年第三季度。存储技术向3D 化演进推动设备需求升级,3D NAND堆叠层数向千层迈进使刻蚀设备用量显著上升,ALD与CVD协同 工艺成为主流,直接利好中微公司、拓荆科技等设备企业。 受积极影响的板块: 半导体材料板块:设备与材料存在强协同关系,设备产能扩张直接带动上游材料需求。中信建投2025年 12月9日研报指出,设备国产化率提升将同步加速靶材、高纯工艺系统等"卡脖子"材料的替代进程。 半导体零部件板块:设备核心零部件国产化是政策重点扶持方向,具 ...