以前聊芯片制造，谁不提光刻机就得被当成外行——ASML的EUV光刻机，那可是比春运火车票还难抢 的硬通货，一台卖3亿多欧元，台积电、三星抢破头，咱们想买还得看人家脸色。但最近半导体圈炸了 个大新闻：英特尔高管当众放话"光刻将不再那么重要"，台积电说High-NA EUV至少5年不用，三星把 DRAM生产计划推迟到2030年。花天价买回来的顶级光刻机，居然开始"吃灰"？这哪是技术迭代，分明 是半导体圈的"真香定律"失灵了！ 这时候，刻蚀技术突然成了"关键先生"。 一、High-NA EUV：从"天价顶配"到"仓库积灰" 要聊清楚这事儿，得先说说High-NA EUV是个啥。简单说，它就是ASML推出的"光刻机Pro Max Ultra 版"——普通EUV用的是0.3数值孔径（NA），能刻13.5nm的线；High-NA EUV把NA提到0.55，理论上 能刻8nm，号称"为1nm以下制程而生"。2023年那会儿，这玩意儿火得一塌糊涂：英特尔2018年就下 单，2023年底催着ASML交货；台积电、三星紧随其后，生怕晚一步就落后对手一代工艺。ASML自己 也吹："High-NA EUV将定义半导体的下一个十年！" ...

文 | 半导体产业纵横，作者 | 丰宁 "光刻将不再那么重要。"这句话一出便在业界引起巨大争议，这句话来源于英特尔的一位高管。 光刻机，向来被视为半导体制造的命脉。但近期多家芯片巨头释放的信息显示，未来光刻技术可能不再 是唯一选择，即便是很难抢到的High-NA EUV，也多处于"闲置"状态。 High-NA EUV光刻机，面临滞销 去年，High-NA EUV 热度很高。 ASML官网显示，其组装了两个TWINSCAN EXE:5000高数值孔径光刻系统。其中一个由ASM与imec合 作开发，将于2024年安装在ASML与imec的联合实验室中，预计2025年投入量产。另一个由英特尔在 2018年订购，2023 年 12 月，ASML正式向英特尔交付了首个High-NA EUV 光刻系统——TWINSCAN EXE:5000的首批模块。 2024 年初，这台光刻机主要组件运抵英特尔；11 月，台积电称年底前会收到 ASML 最先进的High-NA EUV光刻机。2025 年 3 月，三星在韩国华城园区引入首台 ASML 造的 TWINSCAN EXE:5000 ，成为英 特尔、台积电之后第三家购入的半导体厂 ...