化学机械抛光

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鼎龙控股申请CMP水性浆料组合物及其应用专利,提供STI制程自动停止抛光
Sou Hu Cai Jing· 2025-06-14 01:58
天眼查资料显示,武汉鼎泽新材料技术有限公司,成立于2017年,位于武汉市,是一家以从事化学原料 和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本1500万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉鼎泽新材料 技术有限公司共对外投资了3家企业,专利信息30条,此外企业还拥有行政许可7个。 金融界2025年6月14日消息,国家知识产权局信息显示,武汉鼎泽新材料技术有限公司、鼎泽(仙桃) 新材料技术有限公司、湖北鼎龙新材料有限公司、湖北鼎龙控股股份有限公司申请一项名为"CMP水性 浆料组合物及其应用"的专利,公开号CN120137535A,申请日期为2025年04月。 专利摘要显示,本发明提供一种应用在浅沟槽隔离(STI)制程、包含二氧化铈磨粒、电解质改性剂和 含氮化学添加剂的化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing)水性浆料组合物,本水性浆料组合物 可提供STI制程自动停止抛光,其使CMP后的不均匀性最小化并且还延长抛光可以持续超过终点的时间, 而没有过度抛光介电二氧化硅膜的风险。 来源:金融界 湖北鼎龙新材料有限公司,成立于2018年,位于武汉市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制 造业为 ...