摘要 ： 这份专利是字节跳动在"AI for Science"领域的深度布局，其背后是从基础算法研发、战略资本投入，到云平台服务落地的完整产业协同链条。 特别提示 微信机制调整，点击顶部"仪器信息网" → 右上方"…" → 设为 ★ 星标，否则很可能无法看到我们的推送。 仪器信息网讯 12月26日，字节跳动旗下公司的一项名为"冷冻电镜图像处理方法、装置、终端和存储介质"的发明专利授权公告，这家以短视 频和人工智能闻名全球的互联网巨头，正将其技术触角悄然延伸至一个高度专业化的科研工具领域。 结构生物学领域正经历一场深刻的范式转移。根据第三方市场研究，全球冷冻电镜市场规模预计到2035年将超过40亿美元。这个曾由精密仪 器和复杂物理模型主导的领域，如今正被数据和算法重新定义。 这份专利是字节跳动在"AI for Science"领域的深度布局，其背后是从基础算法研发、战略资本投入，到云平台服务落地的完整产业协同链 条。 市场拐点 冷冻电镜技术凭借其解析大型、动态生物分子复合物的独特能力，已成为结构生物学和现代药物发现的基石。 然而，技术瓶颈同样突出：实验产生的海量图像信噪比极低，传统数据处理流程复杂、耗时且高度依 ...

编辑丨王多鱼 排版丨水成文 西湖实验室 （生命科学和生物医学浙江省实验室） 是 2020 年 7 月经浙江省人民政府批准设立的首批浙 江省实验室，聚焦生命科学和生物医学，依托 西湖大学 建设， 致力于在基础研究和转化研究方面取得突 破，重点关注 生物医学研究中最突出且最具挑战性的两个领域—— 衰老相关疾病 和 癌症 。 西湖实验室正在公开招聘多个终身轨/终身教职岗位，涵盖所有学术层级。成功入选者还将获任西湖大学兼 职教职。招聘方特别鼓励在 衰老、神经退行 及相关领域 有专长的学者申请。 申请者必须拥有博士学位、医学博士学位或同等学位，具备出色的研究成果记录，有创新的未来研究计 划，能够在本科和研究生教学中取得卓越成就，并致力于在科学实践和教学中促进多元化和包容性社区的 发展。成功入选者将被期望在西湖大学生命科学学院建立充满活力的研究项目，教授研究生和本科生课 程，并参与学院和西湖大学的其他学术活动。 成功申请者将获得具有国际竞争力的薪资和福利、丰厚的启动资金、现代化的实验室空间以及西湖实验室 的先进核心设施的使用权限，包括冷冻电镜、质谱仪、流式细胞仪、光学显微镜、基因组学、代谢组学、 生物信息学和高通量筛选设 ...

Core Insights - The research team from Peking University has made significant advancements in understanding the microstructure and entanglement behavior of photoresist molecules in liquid environments using cryo-electron tomography, which can guide the development of industrial solutions to reduce lithography defects [1][2]. Group 1: Importance of Lithography - Lithography is a critical step in semiconductor manufacturing, essentially "printing" circuit patterns onto semiconductor wafers like silicon [1]. - The development process of photoresist involves a developer solution that selectively dissolves exposed areas, where the adsorption and entanglement of photoresist molecules are key factors affecting defect formation on the wafer surface, directly impacting chip performance and yield [1]. Group 2: Use of Cryo-Electron Tomography - The research team has introduced cryo-electron tomography to the semiconductor field, designing a sample preparation method closely integrated with the lithography process [2]. - After standard lithography exposure, the developer solution containing photoresist polymers is rapidly frozen to capture the true conformation of the photoresist in solution, allowing for high-resolution three-dimensional reconstruction of the polymer structure and interface distribution [2]. Group 3: Implications for the Industry - The three-dimensional reconstruction revealed that previously believed dispersion of dissolved photoresist polymers is primarily adsorbed at the gas-liquid interface, with the team observing "coagulated entanglements" of the polymers [3]. - The research proposes two effective solutions: suppressing entanglement and capturing at the interface, which successfully eliminated over 99% of pattern defects caused by photoresist residues on 12-inch wafers, demonstrating high reliability and repeatability [3]. - This research highlights the potential of cryo-electron tomography as a powerful tool for analyzing liquid-phase interfacial reactions at the atomic/molecular scale, paving the way for improved lithography precision and yield [3].