公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 在如今的半导体产业中，光刻作为芯片制造的核心工艺，愈发受到重视，在这场围绕纳米级精 度的技术竞逐中，ASML的表现尤为瞩目。 但ASML的能力，远不止于制造众所周知的光刻机。在光刻这门微观艺术里，ASML早已构建 出一整套覆盖前后工序、软硬结合的全景光刻解决方案。这是一个由多项硬件模块、软件平台 与优化算法协同运作的技术系统——涵盖光刻机台、光罩优化、光学对准、计算光刻、缺陷检 测，甚至延伸到晶圆厂工艺协同。 可以说，如今的ASML代表的远不止一台设备，而是光刻背后的一整套技术生态。 为推动光刻技术走近大众视野，激发更多人对芯片制造核心工艺的兴趣，ASML中国在2025年6月20 日隆重举办「ASML杯」光刻「芯」势力知识挑战赛。这不仅是一场面向科技爱好者和专业人才的知 识盛宴，更是一扇通往"全景光刻世界"的探索之门。 目前「ASML杯」光刻「芯」势力知识挑战赛的报名已经正式开始， 欢迎点击文末"阅读原文"或扫 描下方二维码 ，参与这场光刻技术盛宴。 半导体行业观察作为行业知名媒体，自然不会错过这场别开生面的光刻技术挑战赛，在深入了解挑战 赛后，我们发现这些光刻 ...

国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业！ 不拘中国、 放眼世界 ！ 关注 世界半导体论坛 ↓ ↓ ↓ 3月25日消息，据报道，中科院成功研发出了固态DUV(深紫外)激光，可发射193nm的相干光， 与 目前主流的DUV曝光波长一致，能将国产半导体工艺推进至3nm！ 技术细节显示，科研人员将1030nm基频激光分两路处理：其中一束通过四次谐波转换生成258nm 激光，另一束经光学参数放大后形成1553nm激光。这两束激光在串级硼酸锂晶体中混合后，最终 产出的193nm激光线宽已控制在0.11pm以内，光谱纯度达到商用准分子激光器标准。尽管目前 70mW的平均功率和6kHz频率尚不及传统方案的1%，但固态设计的先天优势已初现端倪。 该技术摆脱了对稀有气体的依赖，理论上可使光刻系统体积缩小30%以上。若后续能在功率密度和 频率稳定性方面实现突破，或将改变现有DUV光刻设备的技术格局。不过正如论文中坦承的， 当前 实验室样机与工业级应用仍存在量级差距，需要材料科学和精密制造领域的协同攻关。 ***************END*************** 半导体公众号推荐 半导体论坛百万微信群 据报道，中 ...