7月18日傍晚，记者来到武汉东湖高新区九峰山实验室，抓住一天中研发人员稍作喘息的间隙进行采访。 夕阳西下，实验室的灯光已次第亮起。研究中心无线连接组负责人吴畅和成员们刚从洁净室出来，还来不及吃饭，就一头扎进了会议 室，与刚从客户现场回来的团队成员一起就白天出现的问题进行推演。自今年3月，由该团队牵头突破的全国首个100nm高性能氮化镓流片 PDK平台正式发布后，已有30余家国内半导体企业通过该平台与九峰山实验室展开合作，团队开启了忙碌的"接单模式"，协助客户使用该 PDK平台进行流片。 据介绍，氮化镓是下一代半导体技术的核心材料，具备高频率、高功率、高效率的特性，同时拥有小体积、高能量密度的优势，在通 信、新型显示、电力电子等领域被视为"黄金材料"，有望引发全球范围的产业技术革命。 其应用场景广泛，在生活领域，电动汽车快充桩、手机和电脑的氮化镓充电器等设备都依赖它实现高效运行；在通信领域，基站射频 器件、卫星通信设备等核心部件也以它为关键支撑；在新型显示领域，AR/VR眼镜等智能可穿戴设备要实现轻薄化设计，其核心部件同样 需要氮化镓材料的支持。 实验室科研工作者在洁净室内进行相关研究 科研工作者在实验室进行研 ...