背面供电技术

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芯片,最新路线图
半导体芯闻· 2025-06-26 10:13
如果您希望可以时常见面,欢迎标星收藏哦~ 众所周知,作为全球半导体工艺研发的核心枢纽,IMEC依托顶尖科研团队、先进基础设施,以及 产学研协同创新的独特模式,长期引领行业技术发展,在半导体领域的权威性与前瞻性备受业界认 可。 正因如此,IMEC对半导体未来路线图的预测,不仅展现了其对行业趋势的深刻洞察,更为全球半 导体企业与科研机构提供了极具价值的参考方向。接下来,本文将聚焦这份最新路线图,深度剖析 其对未来半导体技术发展的预测与展望。 解读IMEC路线图 IMEC最近更新了直至2039年的路线图,这份路线图预测了未来14年内工艺节点技术的演进过程, 涵盖了即将出现的新技术和工艺节点的演进。 IMEC 预测至 2039 年的路线图 (图源: YouTube 博主 @TechTechPotato ) 在其中,IMEC详细阐释了如何对芯片工艺节点、晶体管架构、芯片互联架构、背面供电技术、 EUV光刻机和2D材料等技术的发展走势和演进历程做出预测,以及这些技术从实验室走向产业化 近日,YouTube博主@TechTechPotato在视频中,深入分享并解读了IMEC(比利时微电子研 究中心)发布的半导体工艺路线图。 ...
披露1.4nm细节,英特尔更新晶圆代工路线图
半导体行业观察· 2025-04-30 00:44
如果您希望可以时常见面,欢迎标星收藏哦~ 今天,英特尔举办了晶圆代工大会,会上公司指出,正在与主要客户洽谈即将推出的14A工艺 节点(相当于1.4纳米),该节点是18A工艺节点的后续产品。英特尔已有多家客户计划流片 14A测试芯片。英特尔还透露,公司至关重要的18A节点目前已进入风险生产阶段,并计划于 今年晚些时候实现量产。 英特尔新的18A-P扩展节点(18A节点的高性能变体)目前正在晶圆厂早期生产。此外,该公司正 在开发一种新的18A-PT变体,该变体支持带有混合键合互连的Foveros Direct 3D,使该公司能够 在其最先进的前沿节点上垂直堆叠芯片。 在英特尔的新方案中,Foveros Direct 3D 技术是一项关键的进展,因为它提供了竞争对手台积电 (TSMC)已在生产中使用的功能,最著名的是 AMD 的 3D V-Cache 产品。事实上,英特尔的实 现在关键互连密度测量方面与台积电的产品不相上下。 在成熟节点方面,英特尔代工厂目前已在晶圆厂中完成其首个 16nm 生产流片,并且该公司目前 还在与联华电子合作开发的 12nm 节点吸引客户。 接下来,我们来看一下这家巨头的晶圆代工最新路线图 ...