5月29日消息，近日，台积电重申，1.4nm级工艺技术不需要高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，目前 找不到非用不可的理由。 台积电在阿姆斯特丹举行的欧洲技术研讨会上重申了其长期以来对下一代高NA EUV光刻设备的立场。 该公司的下一代工艺技术，包括A16（1.6纳米级）和A14（1.4纳米级）工艺技术，不需要这些最高端的 光刻系统。 因此，台积电不会在这些节点上采用高数值孔径EUV设备。 "人们似乎总是对台积电何时会使用高数值孔径 (High-NA) 感兴趣，我认为我们的答案很简单，"台积电 副联席首席运营官兼业务发展和全球销售高级副总裁张晓强 (Kevin Zhang) 在活动上表示。 "只要我们发现高数值孔径 (High-NA) 能够带来有意义的、可衡量的效益，我们就会采用。对于A14 来 说，我之前提到的性能提升在不使用高数值孔径的情况下也非常显著。因此，我们的技术团队正在持续 寻找延长现有EUV寿命的方法，同时获得微缩优势。" 台积电的A14工艺基于其第二代纳米片环栅晶体管 (Nanosheet Gate-All-Accepted Transistor)，以及全新的 标准单元架构。 据了解，A ...

如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 据标普 Capital IQ 数据显示，ASML 被视为半导体供应链中的关键一环，其股价去年 7 月创下每 股逾 1000 欧元的历史新高，市值达到 4295 亿美元。但截至周二收盘，ASML 市值已跌至略低于 2970 亿美元。 自去年以来，由于美国加强对华芯片出口限制，以及美国总统唐纳德·特朗普上任以来威胁对半导 体行业征收关税，半导体类股一直波动剧烈。ASML 和其他欧洲半导体公司都感受到了压力。 ODDO BHF 股票研究主管 Stephane Houri 周三在 CNBC 的"欧洲早间版"节目中表示："该领域 所有设备制造商的股价都下跌了，因为他们把所有的担忧都集中在……美国对中国的限制上。" Houri 还表示，关税讨论以及关于企业是否在人工智能领域过度投资的争论，引发了人们对"需求 是否未达到许多人预期的水平"的质疑。 ASML 是半导体供应链中最重要的公司之一。它设计的极紫外光刻 (EUV) 设备被台积电等制造商 采购，用于制造世界上最先进的芯片。 该公司最近开始出货下一代高数值孔径 (High NA) 设备。 来源：内容 编译自 CNBC 。 受对华 ...

来源：内容来自 Source：编辑部，谢谢。 如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 在日前英特尔推出了A14工艺之后，两大晶圆厂巨头正式入局这个巅峰之争。从目前的资料看来，总体而言，他们在 架构、EUV光刻和晶体管设计上展开了激烈竞争。 首先看台积电，据该公司执行副总裁兼联席首席运营官Yuh-Jier Mii （米玉杰）博士介绍，当前的发展方向是从 FinFET到Nanosheet。除了这些技术之外，垂直堆叠的NFET和PFET器件（称为CFET）也可能是实现器件微缩的候选 方案。除了CFET之外，沟道材料方面也取得了突破，可以进一步实现尺寸微缩和降低功耗。上图总结了这些进展。 米博士报告称，台积电一直在积极构建硅基CFET器件，以实现更高水平的微缩。台积电在2023年IEDM上展示了其首 款栅极间距为48纳米的CFET晶体管。今年在IEDM上，台积电展示了最小的CFET反相器。下图展示了该器件在高达 1.2V电压下均衡的性能特征。 英特尔将推出的 14A 工艺节点（计划于 2027 年进行风险生产）的性能指标，宣称其功耗将降低高达 35%。英特尔还 展示了其全新的 Turbo Cell 技术，这是一种可 ...