势银咨询： 势银咨询顾问服务 "宁波膜智信息科技有限公司"为势银（TrendBank）唯一工商注册实体及收款账户 势银研究： 势银产业研究服务 势银数据： 势银数据产品服务 重要会议： 7月9日-10日，2025势银（第五届）光刻产业大会（安徽合肥） 点此报名 添加文末微信，加 光刻胶 群 奥格 总经理 姚尧 确认参加 2025势银（第五届）光刻产业大会， 并作为嘉宾分享 " 系统集成及 装备在半导体光刻胶领域的应用（拟） " 的主题报告 。 得很 娱乐 经 北 格流体该备有限公 澳洲官版: 系统集成及装备在半导体光刻 胶域域的应用(排) 2025势银(第五届)光刻产业大会 扫描二维码报名 0 合肥新站利港喜来登酒店 ⊙ 2025年7月9日-10日 姚尧， 总经理。 河北奥格流体设备有限公司 成立于2014年，公司专注于各类洁净搅拌罐、反应釜、系统 集成技术的设计与制造，拥有一、二类压力容器设计和制造证、建筑机电安装工程专业 承包贰级,石油化工工程施工总承包贰级、GC2类压力管道安装资质证、三体系认证 (IS09001质量管理体系认证证、IS014001环境管理体系认证证、IS045001职业健康安 全管理体 ...

①固态电池+海工装备+光刻机+芯片概念！这家公司获得半导体掩模版直写光刻机订单，与客户在固态电 池方面有相关接洽合作；②人形机器人+海工装备+核电+数据中心！这家公司有人形机器人和机器狗相关 线缆订单；③减肥药+合成生物+CRO！公司公司多肽原料药产能达到吨级。 前言 每周日至每周四推送明日股市重大公告！内容包含"停复牌、增减持、投资中标、收购、业绩、解禁、 高送转"等一系列个股利好利空公告，其中重要公告均以红色标注，帮助投资者提前寻找到投资热点， 防范各类黑天鹅事件，并且有充足的时间进行分辨和寻找合适的上市公司。 ...

"宁波膜智信息科技有限公司"为势银（TrendBank）唯一工商注册实体及收款账户 势银研究： 势银产业研究服务 势银数据： 势银数据产品服务 势银咨询： 势银咨询顾问服务 重要会议： 7月9日-10日，2025势银（第五届）光刻产业大会（安徽合肥） 点此报名 添加文末微信，加 光刻胶 群 安捷伦科技 资深液质工程师 马浩 确认参加 2025势银（第五届）光刻产业大会， 并作为嘉宾分享 " IC光刻胶表征新趋势与安捷伦多维分析方案 " 的主题报告 。 了帮我 u 安捷伦科技(中国)有限公司 资深液质工程师 演讲主题: IC光刻胶表征新趋势与安捷伦 多维分析方案 马浩 ，安捷伦资深液质技术工程师。拥有十年以上液质工作经历，具有如三重四极杆、 四极杆飞行时间高分辨质谱的使用和应用经验，尤其在半导体光刻胶等先进材料领域有 丰富的分析测试应用经验。负责液质产品的应用开发及市场拓展。 安捷伦科技有限公司 （纽约证交所： A）是分析与临床实验室技术领域的全球领导者， 致力于为提升人类生活品质提供敏锐洞察和创新经验。安捷伦的仪器、软件、服务、解 决方案和专家能够为客户最具挑战性的难题提供更可靠的答案。2024 财年，安捷伦 ...

中国经济网6月25日讯 6月24日至27日，作为全球光电子行业最具影响力和规模的专业展览之一，慕尼 黑国际光博会（Laser World of Photonics）在德国慕尼黑新国际博览中心举办。12家成都企业首次组团 参展，为成都光电产业与国际市场的深度融合搭建了桥梁。 成都绛溪未来光电科技有限公司技术总监杨鹏表示，希望通过展示R－800型四极杆质谱检漏仪、 MDS500掩模版缺陷检测仪、空白掩模版等自主创新产品，向全球展现中国在泛半导体领域的自主创新 实力，并寻求与欧洲电池厂商、半导体设备商及掩模版需求方的产业链合作，推动国产技术国际化。 成都新源汇博光电科技有限公司重点展示了激光晶体、精密光学元器件、探测器等三大核心技术产品 线。董事长张建军透露，计划通过展会收集50家以上潜在客户信息，并持续跟进。 近年来，成都市积极推动光电产业发展，出台了一系列支持政策，培育了一批具有国际竞争力的光电企 业。此次成都企业组团参加光博会，正是成都光电产业国际化发展的一个生动缩影。业内人士认为，通 过参加国际顶级展会，成都企业能够更好地了解国际市场需求，学习国际先进技术和经验，提升自身的 创新能力和市场竞争力，从而助力" ...

"宁波膜智信息科技有限公司"为势银（TrendBank）唯一工商注册实体及收款账户 势银研究： 势银产业研究服务 势银数据： 势银数据产品服务 势银咨询： 势银咨询顾问服务 重要会议： 7月9日-10日，2025势银（第五届）光刻产业大会（安徽合肥） 点此报名 添加文末微信，加 光刻胶 群 潍坊星泰克 董事长 孙逊运 确认参加 2025势银（第五届）光刻产业大会， 并作为嘉宾分享 "CAR光 刻胶的前世今生" 的主题报告 。 势 演讲主题: CAR光刻胶的前世今生 2025势银(第五届)光刻产业大会 0 合肥新站利港喜来登酒店 ⊙ 2025年7月9日-10日 SAM SUN（孙逊运） 博士，光刻胶领域资深科学家，潍坊星泰克微电子材料有限公司 创始人，公司董事长。2012年入选泰山学者海外特聘专家，2013年入选科技部科技创新 创业人才，2021年获得齐鲁友谊奖，2022年获山东省技术发明一等奖、山东省专利二等 奖。获得2项美国发明专利、1项日本发明专利、12项国内发明专利，填补5项国内技术 空白。孙博士在华期间主持研究"全谱系"光刻胶产品，独创高硅光刻胶技术新概念和新 配方突破业界延用30多年的光刻胶概念，成 ...

公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 来源：内容来自semiengineering 。 要使高 NA EUV 光刻技术发挥作用，需要采用适合制造的方法来拼接电路或对更大的掩模进行全面改 变。 曝光场之间的电路拼接对高数值孔径 (0.55) EUV 转换的设计、良率和可制造性提出了挑战。替代方 案是彻底将 6×6 英寸掩模版改为 6×11 英寸掩模版，从而消除电路拼接，但需要几乎完全更换掩模版 制造基础设施。 现代多核 SoC 具有越来越大的片上内存，通常难以保持在光罩极限内，即 193nm 浸没式和 EUV 光 刻的面积为 26 平方毫米，而由于变形镜头，高 NA 的光罩面积会缩小到该尺寸的一半。将中介层纳 入封装中允许晶圆厂将此类设计拆分为芯片，但中介层仍然必须适合标准场大小。该尺寸由光罩尺寸 （6×6 英寸）决定，光刻扫描仪会将其缩小 4 倍（最大为 676 平方毫米）。对于高 NA（0.55） EUV，该场要小一半，这也会使 EUV 工具的吞吐量减半。结果是每两次曝光的图案都必须拼接在一 起。 IBM研究员Christopher Bottoms 在最近的 SPIE 先进光刻与图案技术会议上表示 ...

"宁波膜智信息科技有限公司"为势银（TrendBank）唯一工商注册实体及收款账户 势银研究： 势银产业研究服务 势银数据： 势银数据产品服务 势银咨询： 势银咨询顾问服务 重要会议： 7月9日-10日，2025势银（第五届）光刻产业大会（安徽合肥） 点此报名 添加文末微信，加 光刻胶 群 复旦大学未来信息创新学院 副研究员 李自力 确认参加 2025势银（第五届）光刻产业大会， 并作为 嘉宾分享 "面向集成电路制造的导向自组装图形化技术" 的主题报告 。 不要说 李自力 复旦大学未来信息创新学院 副研究员,硕士生导师 澳洲官版: 面向集成电路制造的导向自组 装图形化技术 2025势银(第五届)光刻产业大会 扫描_维码报名 会议议程 7月9日 上午 先进光刻技术与产业发展专场 主办方致辞 朱慧 合伙人兼泛半导体事业部总裁 势银 (TrendBank) 0 合肥新站利港喜来登酒店 ⊙ 2025年7月9日-10日 李自力， 复旦大学未来信息创新学院副研究员，硕士生导师。主要从事导向自组装新原 理光刻技术、材料及其应用研究。近五年，共发表论文34篇，以第一/通讯作者在ACS Nano等发表高水平论文18篇，撰写英文 ...

以下是对话节选。 SE：非 EUV 节点（例如 193i 浸没式技术）仍在不断发展。哪些关键创新能够保持这项技术的可行 性并延长其使用寿命？ 公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 来源：内容 编译自 semiengineering 。 日 前 ， 半 导 体 工 程 杂 志 (Semiconductor Engineering) 与 HJL Lithography 首 席 光 刻 师 Harry Levinson 、 D2S 首 席 执 行 官 Aki Fujimura 、 美 光 公 司 掩 模 技 术 高 级 总 监 Ezequiel Russell 以 及 Photronics 执行副总裁兼首席技术官 Christopher Progler 就掩模制造的现状和未来发展方向进行了 探讨。 Progler： 最大的创新在于曲线掩模版的使用——更复杂的掩模版形状，充分利用了当今刻写技术的 优势。借助多光束掩模刻写技术，现在可以在掩模版上制作出以前无法实现的复杂形状。这无疑是一 个 真 正 的 推 动 力 。 其 次 ， 在 掩 模 设 计 流 程 中 更 广 泛 地 使 用 计 算 工 具 。 如 ...

如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 来源：内容编译自 semiengineering 。 不断发展的光刻需求对掩模写入技术提出了挑战，并且正在向曲线转变。 近日，Semiconductor Engineering与 HJL Lithography 首席光刻师 Harry Levinson、 D2S首席 执行官 Aki Fujimura、美光公司掩模技术高级总监 Ezequiel Russell 以及 Photronics 执行副总裁 兼首席技术官 Christopher Progler 就掩模制造的现状和未来发展方向进行了探讨。 以下是对话节选： SE：非 EUV 节点（例如 193i 浸没式技术）仍在不断发展。哪些关键创新能够保持这项技术的可 行性并延长其使用寿命？ Progler： 最大的创新在于曲线掩模版的使用——更复杂的掩模版形状，充分利用了当今刻写技术 的优势。借助多光束掩模刻写技术，现在可以在掩模版上制作出以前无法实现的复杂形状。这无疑 是一个真正的推动力。其次，在掩模设计流程中更广泛地使用计算工具。如今，诸如掩模工艺校正 (MPC) 和高级仿真等工具可以更有效地预测结果。这减少了对昂贵实验 ...

点击 最 下方 " 推荐"、"赞 "及" 分享 "，"关注"材料汇 添加 小编微信 ，遇见 志同道合 的你 正文 光掩模，即光刻掩模版，又称光罩掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移母版，是平板显示、半导体、触控电路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。 掩 模版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上，从而实现批量化生产。作为光刻复制图形的基准和蓝本，掩模版是连接工业设 计和工艺制造的关键，掩模版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。 半导体光掩模市场被美日企业垄断，国产替代需求旺盛。 根据 SEMI的统计数据，2019 年在半导体芯片掩模版市场， 英特尔、三星、台积电等晶圆厂自行配套的掩 模版工厂占据 65%的份额，其它的掩模版主要被美国 Photranics、日本 DNP以及日本Toppan 三家公司所垄断 。与此同时， 掩模版基材及其石英基板、光刻胶、光 学膜等关材料同样被国外企业垄断 。 通过复盘海外龙头的发展路径，我们发现海外公司有以下共同点： 1)在行业内 深耕多年，有充分的 know-how 经验累积 ；2)在发展中，不断收购与并购光掩模相关 团队与公司， ...